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        產品詳情
        • 產品名稱:半導體薄膜電子束蒸發鍍膜儀

        • 產品型號:CY-X-EIB500
        • 產品廠商:成越科儀
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        電子束蒸發方式鍍膜設備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料
        詳情介紹:

        該設備以電子束蒸發方式鍍膜設備,主要用于制備各種導電薄膜、半導體薄膜、鐵電薄膜、光學薄膜,微納器件微加工,電鏡樣品預處理等,尤其適用蒸鍍各種難熔金屬材料。不僅可用于玻璃片、硅片等硬質襯底,也可用用于PDMS、PTFE、PI等柔性襯底上鍍膜.


        電子束蒸發鍍膜儀技術參數:

        產品名稱

        電子束蒸發鍍膜儀

        產品型號

        CY-X-EIB500

        使用條件

        環境溫度540

        電源

        三相380V

        電壓

        220V 50HZ

        功率

        <20千瓦

        水壓

        <2.5bar

        鍍層監控

        采用SQM160膜厚儀進行監控,涂層厚度不均勻度小于6%。

        加熱燈

        4只鹵素加熱燈用于除氣,1個氖燈用于照明

        電極接口

        9、2路金屬蒸發電極接口,備用

        水冷系統

        水壓監測

        觀察窗

        直徑100mm,帶X光濾光玻璃

        控制系統

        觸屏系統

        真空室尺寸

        蒸發室尺寸:Φ500*H500mm

        電子槍

        新型電子槍,6孔坩堝

        樣品轉盤

        樣品尺寸:<150mm,樣品臺可旋轉,樣品臺表面與電子槍表面距離上下調節,調節距離為200mm-250mm,樣品臺可加熱,加熱溫度<500℃。

        系統真空度

        A、極限真空:烘烤1224小時,連續抽氣,真空小于5x10-5Pa

        B、抽氣速率:從大氣開始, 40 分鐘內真空 < 5x10-4Pa

        C、系統泄漏率:關機12小時后,測量真空室真空度<10Pa

        真空機組

        FB1200分子泵+VRD-16前級泵+旁抽閥+閘板閥+切斷閥+復合真空計+鍍膜監測真空計接口(備用)


        豫公網安備 41019702002438號

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