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        產品詳情
        • 產品名稱:單靶直流磁控濺射鍍膜儀

        • 產品型號:CY-MSC360-1DC
        • 產品廠商:成越科儀
        • 產品文檔:
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        簡單介紹:
        該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等
        詳情介紹:

        單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,經過緊湊化設計,實現了體積與性能的平衡,造型美觀功能齊全。整機均采用觸控屏控制,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。

        單靶為一支強磁靶,所配電源為 11500W 直流電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備。

        鍍膜儀配有一路高精度質量流量計,客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路,以滿足復雜的氣體環境構建需求;儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達 1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制,可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品,大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制,在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能,可以進一步提高您的實驗效率。

        應用范圍:

        該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

        規格參數:

        單靶直流磁控濺射鍍膜儀

        樣品臺

        外形尺寸

        Φ360mm

        可調轉速

        1-20rpm可調

        磁控靶槍

        靶材平面

        圓形平面靶

        濺射真空

        0.1Pa3Pa

        靶材直徑

        100101.6mm

        靶材厚度

        3mm

        絕緣電壓

        >2000V

        電纜規格

        SL-16

        靶頭溫度

        65

        真空腔體

        內壁處理

        電解拋光

        腔體尺寸

        Φ500mm × 500mm

        腔體材料

        304不銹鋼

        觀察窗口

        石英窗口,直徑φ100mm

        開啟方式

        側面開啟

        氣體控制

        流量控制

        質量流量計,量程0100SCCM

        氣體種類

        可選氬氣、氮氣、氧氣等多種氣體

        調節閥類型

        電磁調節閥

        調節閥靜止狀態

        常閉

        測量線性度

        ±1.5%F.S

        測量重復精度

        ±0.2%F.S

        測量響應時間

        8秒(T95

        工作壓差范圍

        0.3MPa

        閥體耐壓

        3MPa

        工作環境溫度

        545)℃

        閥體材料

        不銹鋼316L

        閥體漏率

        1×10-8Pa.m3/s

        管道接頭

        1/4″卡套接頭

        輸入輸出信號

        05V

        供電電源

        ±15V(±5%)(+15V  50mA,  15V  200mA

        外形尺寸mm

        130(寬)×102(高)×28(厚)

        通訊接口

        RS485 MODBUS協議

        直流電源

        電源功率

        1500W

        膜厚測量

        電源要求

        DC:5V(±10%) *大電流 400mA

        分辨率

        ±0.03Hz(5-6MHz),0.0136? /測量()

        測量精度

        ±0.5%厚度+1計數

        測量周期

        100mS1S/次(可設置)

        測量范圍

        500,000 ? ()

        晶體頻率

        6MHz

        通訊接口

         RS-232/485串行接口

        顯示位數

        8LED顯示

        分子

        分子泵抽速

        1200L/S

        額定轉速

        24000rpm

        振動值

        0.1um

        啟動時間

        5min

        停機時間

        7min

        冷卻方式

        水冷+風冷

        冷卻水溫度

        37

        冷卻水流速

        1L/min

        安裝方向

        垂直±5°

        抽氣接口

        150CF

        排氣接口

        KF40

        前級泵

        抽氣速率

        VRD-16

        極限真空

        1Pa

        供電電源

        AC:220V/50Hz

        電機功率

        400W

        噪音

        56db

        抽氣接口

        KF40

        排氣接口

        KF25

        閥門

        閘板閥

        真空腔體與分子泵間裝有閘板閥

        切斷閥

        分子泵與前級之間裝有切斷閥

        旁抽閥

        真空腔體與前級之間裝有旁抽閥

        放氣閥

        真空腔體上裝有電磁放氣閥

        整機極限真空

        5×10-4Pa

        測試靶材

        直徑4英寸厚度3mm的鎳靶材1

        豫公網安備 41019702002438號

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